Povlak odparovania elektrónovým lúčom
Apr 25, 2020| Povlak odparovania elektrónovým lúčom
Za vysokého vákua sa vlákno elektrónovej pištole zahrieva, aby emitovalo horúce elektróny, ktoré sú urýchľované urýchlenou anódou, aby sa získalo veľké množstvo kinetickej energie a bombardoval odparovací materiál. Kinetická energia sa premieňa na teplo, aby sa vyparovaný materiál zahrial a splynoval, a uskutoční sa odparovanie elektrónovým lúčom. Zdroj odparovania elektrónového lúča pozostáva z horúcej katódy, ktorá emituje elektróny, elektródy urýchľujúcej elektróny a poťahového materiálu, ktorý je ACTS ako anóda. Energia zdroja odparovania elektrónovým lúčom môže byť vysoko koncentrovaná, čo spôsobuje, že poťahový materiál lokálne dosiahne vysokú teplotu a odparí sa. Úpravou sily elektrónového lúča je možné pohodlne regulovať rýchlosť vyparovania poťahového materiálu, najmä pre materiály s vysokou teplotou topenia, kovmi a zlúčeninami s vysokou čistotou.
IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com
