Faktorov spôsobiť nerovnomerné tenkovrstvových mení magnetrón prská vákuové náterových Machine

Faktory nerovnomerné film vrstva spôsobiťmení magnetrón prská vákuové náterových machinetri aspekty: vákuové štátu, magnetické pole a argónom.

Funkčný princípmení magnetrón prská vákuové náterových machineje to pod vákuové štáty, elektrón kolmé magnetické pole bombardujú argónu a tvoria argónovými iónmi, potom bombardovanie cieľové materiál, tak, že cieľové iónov môže byť uložený na povrchu dielu podobe tenkovrstvových.

Vákuové štát potrebuje čerpací systém na kontrolu a každý otvor má byť súčasne ovládané a konzistentné. Ak čerpanie nie je jednotná, tlakom vo vákuovej komore bude nerovnomerný. Tlak má určitý vplyv na pohyb iónov. Okrem toho sa musia kontrolovať čas čerpania. Príliš krátke spôsobí nedostatočné vákuum, ale je to príliš dlho a plytvanie zdrojmi.

Magnetické pole funguje dojmom, ale je to nemožné, aby intenzita magnetického poľa 100% jednotné. Ak všeobecné magnetického poľa je silná, hrúbka filmu je veľký, ale je malá naopak, tak to spôsobí nekonzistentnosť hrúbka filmu. Však v procese výroby nerovnosti film kvôli non-uniformity magnetického poľa nie je bežné.

Argón plyn jednotnosť ovplyvňuje aj film jednotnosť a princíp je podobná vákuum. Pretože argón vstúpi do vákuovej komory, zmení sa tlak vo vnútri komory. Jednotné tlak môžete ovládať rovnomernosť hrúbky filmu mení magnetrón sputtering vákuové náterových machine.

Pre viac ako desať rokov,IKSšpecializujúca sa na všetky druhy vákuové vrstva aplikačného zariadenia výroba, zameriava na výskum, vývoj a výroba vákuových náterových machine, s najnovšou technológiou neustále produkovať potrebám trhu vákuové poťahovacie zariadenia , poskytuje zákazníkom riešenia prispôsobené technológií a zariadení.