Iónové pokovovanie
Dec 06, 2019| Iónové pokovovanie
Na jednej strane je iónovým povlakom vystreliť cieľový atóm na povrch depozície obrobku, na druhej strane existujú vysokorýchlostné neutrálne častice, ktoré zasiahnu povrch obrobku, aby sa zvýšila adhézia medzi povlakom a substrát (až 10 ~ 20 MPa).
Táto metóda bola široko používaná kvôli jej silnej adaptabilite, rovnomernej hustote, dobrej húževnatosti a rýchlej depozícii.
IKS PVD Stroj na optické nanášanie elektrónovým lúčom ， IKS-OPT2700, Ďalšie informácie, vitajte kontakt iks.pvd@foxmail.com
Zaslať požiadavku