Depozícia rozprašovaním iónov

Dec 05, 2019|

Depozícia rozprašovaním iónov

Na bombardovanie cieľového materiálu vyrobeného z určitého materiálu sa používajú argónové ióny s energiou 0,1 až 5 kV, vyrazia cieľové atómy a uložia ich na povrch obrobku, čím sa vytvorí tenký film. Tento spôsob je v skutočnosti proces poťahovania.

NeoImage_副本

IKS PVD Stroj na optické nanášanie elektrónovým lúčom , IKS-OPT2700, Ďalšie informácie, vitajte kontakt iks.pvd@foxmail.com

Zaslať požiadavku