PVD technológia štyri procesné kroky
Apr 06, 2020| Technológia PVD Štyri procesné kroky (1) čistenie obrobku: vyradenie jednosmerného prúdu, výboj argónového žiarenia ako ión argónu, bombardovanie povrchu obrobku argónovými iónmi, povrchové častice a špinavé časti obrobku boli vyhodené; (2) splyňovanie materiálu na pokovovanie: to je po zavedení striedavého prúdu odparovanie materiálu na pokovovanie. (3) migrácia iónov pokovovaného materiálu: po kolízii a vysokonapäťovom elektrickom poli sa atómy, molekuly alebo ióny zo zdroja splyňovania ponáhľali k obrobku vysokou rýchlosťou; (4) atómy, molekuly alebo ióny pokovovaného materiálu sa nanášajú na substrát: keď ióny odparovaného materiálu na povrchu obrobku presahujú počet rozliatych iónov, postupne sa hromadí a tvoria vrstvu povlaku pevne priľnutú k povrchu polotovar. Po časticovej ionizácii iónového pokovovania má odparovaný materiál tri tisíce ku kinetickej energii päťtisíc elektrónových voltov, vysokorýchlostné artefakty bombardovania, nielen rýchlosť ukladania, ktorá je rýchla a je schopná preniknúť po povrchu, čím sa vytvára hlboká vrstva difúznej matrice. , hĺbka difúzie rozhrania iónového pokovovania by bola štyri až päť mikrónov, to znamená, ako obyčajná hĺbka difúznej hĺbky vákuového poťahovania hlboko desiatky krát, dokonca stokrát, a navzájom by sa tak rýchlo prilepili.
IKS PVD Technology (Shenyang) Co, Ltd ， PVD vákuové nanášacie stroje výrobcu z Číny, náš hlavný produkt: dekoratívne povlak mahcine, náradie povlakovací stroj, optický povlakovací stroj, PVD povlakovaciu linku. Viac informácií, kontaktujte: iks.pvd@foxmail. com