Spoločné odstraňovanie problémov s filmom Magnetron Sputtering

Film je šedý a tmavý

1. Stupeň vákua je nižší ako 0,67 Pa. Stupeň vákua by sa mal zvýšiť na 0,13-0,4 Pa.

2. Čistota argónu je nižšia ako 99,9%. Plase používajú argón s čistotou 99,99%.

3. Netesnosť nafukovacieho systému. Systém inflácie by sa mal skontrolovať, aby sa odstránili netesnosti.

4. Primer nie je úplne vyliečený. Doba vytvrdzovania primeru by mala byť primerane rozšírená.

5. Množstvo plynu uvoľneného z dosky je príliš veľké. Komora by mala byť vysušená a uzavretá

Rozmazaný a matný povrch

1. Čas rozprašovania je príliš dlhý. Čas by mal byť primerane skrátený.

2. Rýchlosť rozprašovania a tvorby filmu je príliš rýchla. Dbajte na správne zníženie naprašovacieho prúdu alebo napätia.

Nerovná farba povlaku

1. Film je príliš tenký. Zvýšte rýchlosť rozprašovania alebo čas rozprašovania.

2. Iracionálne riešenie dizajnu. Konštrukcia zostavy by sa mala zlepšiť.

3. Geometria substrátu je príliš komplikovaná. Vhodným spôsobom zvýšite rýchlosť otáčania podkladu.

Film má vrásky alebo trhliny

1. Rýchlosť odparovania je príliš rýchla. Malo by sa riadne spomaliť.

2. Film je príliš hrubý. Doba rozprašovania by mala byť primerane skrátená.

3. Teplota podkladu je príliš vysoká. Skráťte dobu ohrevu podkladu.

Povrch filmu má stopy vody, odtlačky prstov a častice sadzí

1. Po čistení podklad nie je dostatočne vysušený. Predbežná liečba by sa mala posilniť.

2. Povrch substrátu je postriekaný vodou alebo slinami. Operátori by mali nosiť masky.

Nízka priľnavosť

1. Slabé odmastenie pokovovacích častí. Predbežná liečba by sa mala posilniť.

2. Podtlaková komora nie je čistá. Vákuová komora by sa mala čistiť. Upozorňujeme, že počas procesu nakladania a vykladania cieľov je striktne zakázané používať ruky alebo iný nečistý predmet, aby ste sa dotkli zdroja magnetrónu.

3. Zariadenie nie je čisté. Zariadenie by sa malo čistiť.

4. Nesprávne riadenie podmienok procesu naprašovania. Vylepšite podmienky procesu naprašovania.