Miera depozície filmu v CVD

Rýchlosti nanášania filmu v CVD sú zvyčajne nízke, v rozmedzí od niekoľkých nanometrov za sekundu do niekoľkých mikrometrov za hodinu, v závislosti od typu prekurzora, teploty substrátu a tlaku. Rýchlosť nanášania môže byť riadená nastavením rýchlosti prietoku prekurzora, teploty substrátu a tlaku v komore.

Spoločnosť IKS PVD, dekoratívny lakovací stroj, nástrojový lakovací stroj, DLC lakovací stroj, optický lakovací stroj, PVD vákuová lakovacia linka, projekt na kľúč je k dispozícii. Kontaktujte nás teraz, e-mail: iks.pvd@foxmail.com