Štyri procesné kroky technológie PVD
Mar 02, 2022| Štyri procesné kroky technológie PVD
(1) Čistenie obrobku: je zapnutý prívod jednosmerného napájania, výboj argónového plynu je argónový ión, argónový ión bombarduje povrch obrobku a častice a nečistoty na povrchu obrobku sa vylečú;
(2) Splyňovanie pokovovania: to znamená po pripojení ac, pokovovanie sa odparuje a odparuje.
(3) migrácia pokovovaných iónov: atómy, molekuly alebo ióny dodávané zo zdroja splyňovania sa po zrážke ponáhľajú na obrobok vysokou rýchlosťou a vysokotlakové elektrické pole;
(4) ukladanie atómov, molekúl alebo iónov na substrát: odparovacie ióny na povrchu obrobku presahujú počet rozstrekových iónov a postupne sa hromadia, aby vytvorili vrstvu povlaku pevne priliehanú k povrchu obrobku.
Po ionizácii iónového pokovovania častíc má odparovací materiál tritisíc na kinetickú energiu päťtisíc elektrónvoltov, vysokorýchlostné bombardovanie artefaktov, nielen rýchlosť ukladania je rýchla a schopná preniknúť na povrch, čím sa vytvára hlboká difúzna vrstva matrice, difúzna hĺbka rozhrania iónového pokovovania by bola štyri až päť mikrónov, to znamená, ako bežná hĺbka difúzie vákuového povlaku hlboko desiatky krát, dokonca stokrát, takže sa veľmi pevne držia.
Spoločnosť IKS PVD, dekoratívny náterový stroj, stroj na nanášanie nástrojov, náterový stroj DLC, optický náterový stroj, PVD vákuová povrchová linka, projekt na kľúč je k dispozícii. Kontaktujte nás teraz, e-mail:iks.pvd@foxmail.com