Prehľad technológií HiPIMS
Jun 21, 2018| Technológia rozprašovania Magnetron sa široko využíva v oblasti prípravy tenkých vrstiev. Aplikácie dekoračného náteru a nanášania náterov sú pomerne bežné.
Avšak technológia spracovania magnetrónovým rozprašovaním má veľa obmedzení. Napríklad, keď je rozprašovací prúd veľký, čo znamená, že hustota výkonu magnetrónového rozprašovacieho cieľa je obmedzená cieľovým tepelným zaťažením, bombardovanie cieľa s nadmernými pozitívnymi iónmi môže spôsobiť, že rozprašovací terč prehreje a spáli. Okrem toho má tiež nevýhody obmedzenej naprašovacej energie a nízkej ionizačnej rýchlosti kovov.
V posledných rokoch bola vyvinutá vysoko výkonná pulzná technológia rozprašovania magnetrónu (HiPIMS) doma iv zahraničí a toto obmedzenie bolo veľmi oslabené. Špičkový výkon pulzného magnetrónového naprašovania s vysokým výkonom je asi 100-násobok bežného magnetrónového naprašovania. Rýchlosť ionizácie rozprašovaného materiálu je extrémne vysoká a tento vysoko ionizovaný lúč neobsahuje veľké častice. Takže vysokokvalitný film možno ľahko získať technológiou HiPIMS.
Pretože impulzný akčný čas je v priebehu niekoľkých stoviek mikrosekúnd, priemerný výkon HiPIMS je porovnateľný s výkonom obyčajného magnetrónového rozprašovania, takže požiadavka na chladenie cieľového magnetrónu sa nezvyšuje. Napriek tomu, že okamžitý výkon veľkokapacitného pulzného magnetrónového naprašovania je vysoký, jeho priemerný výkon nie je vysoký, takže sa dá široko používať.