Vplyv parametrov procesu magnetrónového naprašovania: Cieľový výkon naprašovania

Vplyv parametrov procesu magnetrónového naprašovania: cieľový naprašovací výkon

Podobne ako pri zmene cieľového prúdu, obsah prvkov a štruktúra kvartérneho povlaku (Cr,Ti,Al)N sa môže upraviť aj zmenou rozprašovacej sily terča. Štúdie ukázali, že so zvyšujúcou sa schopnosťou naprašovania Cr terčom má obsah Cr v povlaku tendenciu stúpať a kvalita povrchu filmu sa tiež zlepší [66]. Dôvody zlepšenia kvality povrchu fólie sú nasledovné: na jednej strane so zvýšením rozprašovacej sily Cr terča sa veľké množstvo vysokoenergetických častíc Cr naprášených bude zrážať s Al kvapôčkami náchylnými na kovové zhluky počas letu, čím sa zmenšuje veľkosť kvapôčok a častice uložené v substráte sú jemnejšie, čím sa zlepšuje kvalita povrchu povlaku. Na druhej strane, so zvyšovaním rozprašovacej sily Cr terča sa zvyšuje energia rozprašovaných Cr častíc, čo má za následok anti-rozprašovací efekt na povlak, čo spôsobí aj redukciu častíc na povrchu terča. náter. Experimentálne výsledky tiež ukazujú, že so zvýšením obsahu Cr sa zrná povlaku (Cr,Ti,Al)N zjemňujú a mikroštruktúra hustne a korozívne médium ťažko preniká do vnútra cez medzeru, dierku a štrbinou hranice medzi stĺpcovými alebo vláknitými zrnami povlaku, čím sa zlepší odolnosť povlaku (Cr,Ti,Al) N proti korózii. Okrem toho výskumníci zistili, že so zvýšením obsahu Cr by sa zodpovedajúcim spôsobom zlepšila aj odolnosť kvartérnych povlakov (Cr,Ti,Al)N proti oxidácii pri vysokej teplote. Je to preto, že čím vyšší je obsah Cr v povlaku, tým hojnejší je obsah fázy 2O3 v oxidovej vrstve (Cr,Al), súvislá a hustá vrstva oxidu CR-Al môže nielen obmedziť difúziu atómov titánu na povrch fólie, ale tiež účinne zabraňujú difúzii atómov kyslíka do vnútra fólie, aby sa zabránilo ďalšej oxidácii vnútrajška povlaku. Odolnosť kvartérnych povlakov (Cr,Ti,Al)N proti oxidácii pri vysokej teplote je vylepšená.

Spoločnosť IKS PVD, stroj na dekoratívny náter, stroj na poťahovanie nástrojov, stroj na poťahovanie DLC, stroj na optické poťahovanie, linka na vákuové poťahovanie PVD, projekt na kľúč je k dispozícii. Kontaktujte nás teraz, e-mail: iks.pvd@foxmail.com